技術シーズ検索
該当件数 153件
No. | 技術シーズコード ▲▼ |
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1 | S130012423 | アルミニウム薄膜及びその製造方法、電解コンデンサ、触媒金属膜、並びに分離素子 | 2013/06/11 | 2013/06/11 |
2 | S130012107 | 金属珪化物薄膜製造法 | 2013/06/10 | 2013/06/10 |
3 | S130012153 | 2Dブロンズ型酸化タングステンナノシート、その製造方法およびそれを用いた光触媒とフォトクロミック素子 | 2013/06/10 | 2013/06/10 |
4 | S130012230 | 金属層の結晶粒径及び粒径分布評価方法並びにそれを用いた半導体集積回路装置の製造方法 | 2013/06/10 | 2013/06/10 |
5 | S130012236 | 透光性多結晶材料及びその製造方法 | 2013/06/10 | 2013/06/10 |
6 | S130012315 | 微粒子配向装置及び微粒子配向方法 | 2013/06/10 | 2013/06/10 |
7 | S130011120 | 超磁歪薄膜素子及びその製造方法 | 2013/06/07 | 2013/06/07 |
8 | S130011766 | 単結晶ダイヤモンド成長用の基材及び単結晶ダイヤモンドの製造方法 | 2013/06/07 | 2013/06/07 |
9 | S130010040 | 電子デバイス用導電性ヘテロ構造化合物膜形成方法 | 2013/06/06 | 2013/06/06 |
10 | S130010236 | 半極性(Ga,Al,In,B)N薄膜、ヘテロ構造およびデバイスの成長と作製のための方法及び装置 | 2013/06/06 | 2013/06/06 |
11 | S130010246 | 有機金属化学気相成長法による半極性(Al,In,Ga,B)Nの成長促進法 | 2013/06/06 | 2013/06/06 |
12 | S130010257 | ケイ素粒子層の形成方法およびシリコン膜の形成方法 | 2013/06/06 | 2013/06/06 |
13 | S130010332 | 面方位(111)のMgO薄膜の作製方法 | 2013/06/06 | 2013/06/06 |
14 | S130010360 | 局所電界分布可視化方法とその装置 | 2013/06/06 | 2013/06/06 |
15 | S130010362 | ダイナミックモードAFM装置 | 2013/06/06 | 2013/06/06 |
16 | S130010366 | pチャネル薄膜トランジスタとその製造方法 | 2013/06/06 | 2013/06/06 |
17 | S130010615 | 2次元フォトニック結晶及びそれを用いた光デバイス | 2013/06/06 | 2013/06/06 |
18 | S130010652 | 光分解性カップリング剤 | 2013/06/06 | 2013/06/06 |
19 | S130010661 | 結晶質シリコン内在SiOx成形体の製造方法とその用途 | 2013/06/06 | 2013/06/06 |
20 | S130010700 | 強誘電体単結晶製造のための原料組成決定方法、強誘電体単結晶の音響関連物理定数の校正方法、及び弾性表面波デバイスの設計パラメータ決定方法 | 2013/06/06 | 2013/06/06 |
21 | S130009694 | 有機液体による高配向整列カーボンナノチューブの合成方法及びその合成装置 | 2013/06/05 | 2013/06/05 |
22 | S130009773 | 電子移動可能体形成材料、電子移動可能体形成方法、及び電子移動可能体 | 2013/06/05 | 2013/06/05 |
23 | S130009831 | 単結晶基板の熱処理方法 | 2013/06/05 | 2013/06/05 |
24 | S130009924 | マスキング機構及びそれを備えた成膜装置 | 2013/06/05 | 2013/06/05 |
25 | S120009114 | ナノシートとポリマーとの複合薄膜の製造方法、およびナノシートとポリマーとの複合薄膜 | 2012/02/24 | 2012/02/24 |
26 | S120008862 | ホットワイヤー法による基材表面の窒化方法 | 2012/02/16 | 2012/02/16 |
27 | S120008785 | 動的階層構造の解析方法とその装置 | 2012/02/15 | 2012/02/15 |
28 | S120008734 | リン酸カルシウム類微粒子を安定化させる方法、それを利用したリン酸カルシウム類微粒子の製造方法、およびその利用 | 2012/02/09 | 2012/02/09 |
29 | S120008683 | 酸化亜鉛系透明導電膜 | 2012/02/08 | 2012/02/08 |
30 | S120008535 | 液晶構造を有するゲルの製造方法及びこの方法で製造された液晶構造を有するゲル | 2012/02/02 | 2012/02/02 |
31 | S120008554 | 液晶式画像表示装置及び液晶式画像表示方法 | 2012/02/02 | 2012/02/02 |
32 | S120008472 | グラフェンシートの製造方法 | 2012/01/31 | 2012/01/31 |
33 | S120008473 | グラフェンシートの製造方法 | 2012/01/31 | 2012/01/31 |
34 | S120008508 | ルチル(TiO2)単結晶の製造方法及びルチル(TiO2)単結晶、並びにこれを用いた光アイソレータ | 2012/01/31 | 2012/01/31 |
35 | S120008220 | 金属ナノシートの製造方法、および金属ナノシート | 2012/01/20 | 2012/01/20 |
36 | S120008222 | 多孔質シリカ膜およびその製造方法 | 2012/01/20 | 2012/01/20 |
37 | S120008232 | 積層体及びその製造方法 | 2012/01/20 | 2012/01/20 |
38 | S120008016 | 非晶質状炭素膜の表面改質方法 | 2012/01/18 | 2012/01/18 |
39 | S120007941 | 液晶用材料、液晶エラストマー、液晶用材料の製造方法、及び液晶エラストマーの製造方法 | 2012/01/16 | 2012/01/16 |
40 | S120007850 | 酸化亜鉛透明導電膜の製造方法及びこの方法を実施するための製造装置 | 2012/01/10 | 2012/01/10 |
41 | S120007827 | 酸化物超伝導薄膜の製造方法 | 2012/01/06 | 2012/01/06 |
42 | S110007208 | 単結晶炭化ケイ素及びその製造方法 | 2011/12/21 | 2011/12/21 |
43 | S110006956 | バックスイッチ現象を抑制した光学素子を製造する方法、および、それによって得られた波長変換素子 | 2011/12/12 | 2011/12/12 |
44 | S110006798 | 強誘電性を示す柱状液晶化合物 | 2011/12/06 | 2011/12/06 |
45 | S110006709 | アルミナミクロ多孔膜およびその製造方法 | 2011/12/05 | 2011/12/05 |
46 | S110006710 | チタニアミクロ多孔膜およびその製造方法 | 2011/12/05 | 2011/12/05 |
47 | S110006670 | パルスレーザーによる物質生成方法 | 2011/11/30 | 2011/11/30 |
48 | S110006384 | 2次元フォトニック結晶製造方法 | 2011/11/21 | 2011/11/21 |
49 | S110006385 | 偏波無依存2次元フォトニック結晶合分波器 | 2011/11/21 | 2011/11/21 |
50 | S110006386 | 2次元フォトニック結晶 | 2011/11/21 | 2011/11/21 |
51 | S110006387 | 2次元フォトニック結晶光共振器 | 2011/11/21 | 2011/11/21 |
52 | S110006319 | 超臨界流体又は亜臨界流体を用いた酸化物薄膜、又は金属積層薄膜の成膜方法、及び成膜装置 | 2011/11/16 | 2011/11/16 |
53 | S110006028 | 単結晶炭化ケイ素の液相エピタキシャル成長方法、単結晶炭化ケイ素基板の製造方法、及び単結晶炭化ケイ素基板 | 2011/11/02 | 2011/11/02 |
54 | S110005833 | 液晶材料、エラストマー、及び液晶材料の製造方法 | 2011/09/30 | 2011/09/30 |
55 | S110005636 | 太陽エネルギー利用装置とその製造方法 | 2011/01/14 | 2011/01/14 |
56 | S110005666 | 薄膜作製方法 | 2011/01/14 | 2011/01/14 |
57 | S110005680 | レーザカラーマーキング方法 | 2011/01/14 | 2011/01/14 |
58 | S110005701 | 磁性半導体薄膜及び磁性半導体薄膜の製造方法 | 2011/01/14 | 2011/01/14 |
59 | S110005714 | 薄膜電極の製造方法 | 2011/01/14 | 2011/01/14 |
60 | S110005477 |
バイオ分子素子、バイオセンサー分子の支持体となる脂肪酸と脂質の積層分子薄膜およびその製造方法
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2011/01/12 | 2011/01/12 |
61 | S110005494 | KFを含有するチタン酸バリウム系圧電体またはその製造方法 | 2011/01/12 | 2011/01/12 |
62 | S110005509 | 単結晶炭化ケイ素基板の表面改質方法、単結晶炭化ケイ素薄膜の形成方法、イオン注入アニール方法及び単結晶炭化ケイ素基板、単結晶炭化ケイ素半導体基板 | 2011/01/12 | 2011/01/12 |
63 | S110005510 | 単結晶炭化ケイ素種結晶の液相生成方法及び単結晶炭化ケイ素種結晶、単結晶炭化ケイ素種結晶板の液相エピタキシャル生成方法及び単結晶炭化ケイ素種結晶板、単結晶炭化ケイ素種結晶基板の生成方法及び単結晶炭化ケイ素種結晶基板 | 2011/01/12 | 2011/01/12 |
64 | S110005543 | 基材表面の改質方法、改質された表面を有する基材およびその製造方法 | 2011/01/12 | 2011/01/12 |
65 | S110005612 |
成膜装置及び成膜方法
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2011/01/12 | 2011/01/12 |
66 | S110004997 | 液晶欠陥を利用した液晶流動形成機構および液晶流動形成方法、並びに、液晶流動を利用した物体移動機構および物体移動方法 | 2011/01/04 | 2011/01/04 |
67 | S110005119 | 単結晶炭化ケイ素基板の製造方法 | 2011/01/04 | 2011/01/04 |
68 | S110005135 | ナノ粒子集合体薄膜及び該薄膜よりなる非線形光学材料 | 2011/01/04 | 2011/01/04 |
69 | S110005150 | 硬質窒化炭素膜の形成方法 | 2011/01/04 | 2011/01/04 |
70 | S110005160 |
ナノ粒子生成方法及びレーザカラーマーキング方法
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2011/01/04 | 2011/01/04 |
71 | S100004295 | 窒化物半導体電子放出素子 | 2010/12/07 | 2010/12/07 |
72 | S100004309 |
結晶成長方法及び結晶成長装置
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2010/12/07 | 2010/12/07 |
73 | S100004357 | 同軸磁化プラズマ生成装置と同軸磁化プラズマ生成装置を用いた膜形成装置 | 2010/12/07 | 2010/12/07 |
74 | S100004515 | 低交流損失酸化物超電導導体及びその製造方法 | 2010/12/07 | 2010/12/07 |
75 | S100004066 | 結晶の対掌性識別方法 | 2010/12/06 | 2010/12/06 |
76 | S100004069 | レーザ照射方法及び装置、微細加工方法及び装置、並びに薄膜形成方法及び装置 | 2010/12/06 | 2010/12/06 |
77 | S100004144 | 炭化シリコンの作製方法 | 2010/12/06 | 2010/12/06 |
78 | S100004145 | 薄膜結晶化方法及び装置 | 2010/12/06 | 2010/12/06 |
79 | S100003755 |
Si系結晶の製造方法
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2010/12/03 | 2010/12/03 |
80 | S100003761 | 荷電制御強磁性半導体 | 2010/12/03 | 2010/12/03 |
81 | S100003805 | ダイヤモンドライクカーボン膜の製造方法 | 2010/12/03 | 2010/12/03 |
82 | S100003813 | カーボンナノチューブと高分子を用いた電子放出源の製法 | 2010/12/03 | 2010/12/03 |
83 | S100003818 | 層状ルテニウム酸化合物膜 | 2010/12/03 | 2010/12/03 |
84 | S100003820 | 透明薄膜電極およびそれを有する電気化学蓄電素子 | 2010/12/03 | 2010/12/03 |
85 | S100003821 | 有機エレクトロルミネッセンス素子 | 2010/12/03 | 2010/12/03 |
86 | S100003826 | 磁性薄膜の形成方法 | 2010/12/03 | 2010/12/03 |
87 | S100003607 | 複合金属酸化物多孔体の製造方法およびこれにより得られる複合金属酸化物多孔体並びにその利用 | 2010/12/02 | 2010/12/02 |
88 | S100003608 | パターン化ハニカム状多孔質体の製造方法 | 2010/12/02 | 2010/12/02 |
89 | S100003627 | 金属被膜を有するプラスチック成形体とその製造方法およびそれらを用いた物品 | 2010/12/02 | 2010/12/02 |
90 | S100003637 | 導電性ペーストとその製造方法およびそれらを用いた配線とその製造方法とそれらを用いた電子部品と電子機器 | 2010/12/02 | 2010/12/02 |
91 | S100003641 | 両面発光有機ELパネル | 2010/12/02 | 2010/12/02 |
92 | S100003658 | 導電性付与可能なLB膜及び導電性LB膜 | 2010/12/02 | 2010/12/02 |
93 | S100003724 | 熱処理装置及びそれを用いた熱処理方法 | 2010/12/02 | 2010/12/02 |
94 | S100003726 | 単結晶炭化ケイ素基板の処理方法、半導体素子の製造方法、及び半導体素子 | 2010/12/02 | 2010/12/02 |
95 | S100003727 | 熱処理装置及び熱処理方法 | 2010/12/02 | 2010/12/02 |
96 | S100003342 | テープ状酸化物超電導体 | 2010/11/12 | 2010/11/12 |
97 | S100002615 | すずーニッケル合金膜の製造方法 | 2010/11/05 | 2010/11/05 |
98 | S100002619 | すず-ニッケル合金膜の製造方法 | 2010/11/05 | 2010/11/05 |
99 | S100002670 | レーザーアブレーションを利用したSiO2膜の形成法及び装置 | 2010/11/05 | 2010/11/05 |
100 | S100002681 | レーザーアブレーションを利用した光学膜の屈折率制御方法及び光学素子形成方法 | 2010/11/05 | 2010/11/05 |
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